日本三豐物鏡M Plan Apo 20× 378-804-3

Mitutoyo三豐顯微鏡單元
日本三豐物鏡(紫外、近紫外、可視、近紅外)
用于半導體、電子、液晶相關等產品的生產
品質管理系統、實驗研究裝置使用的光學系統
外觀檢查系統的嵌入式光學單元
微生物等運動物體的觀察 等

 明視場用物鏡
M Plan Apo /
M Plan Apo HR
VMU WIDE VMU FS70 MF-U Hyper MF-U

 M Plan Apo
M Plan Apo 1× ※1 378-800-3 0.025 11.0 200 11.0 440 24 4.8×6.4 300
M Plan Apo 2× ※2 378-801-6 0.055 34.0 100 5.0 91 12 2.4×3.2 220
M Plan Apo 5× 378-802-6 0.14 34.0 40 2.0 14 4.8 0.96×1.28 230
M Plan Apo 7.5× 378-807-3 0.21 35.0 26.67 1.3 6.2 3.6 0.64×0.85 240
M Plan Apo 10× 378-803-3 0.28 34.0 20 1.0 3.5 2.4 0.48×0.64 240
M Plan Apo 20× 378-804-3 0.42 20.0 10 0.7 1.6 1.2 0.24×0.32 270
M Plan Apo 50× 378-805-3 0.55 13.0 4 0.5 0.9 0.48 0.10×0.13 290
M Plan Apo 100× 378-806-3 0.70 6.0 2 0.4 0.6 0.24 0.05×0.06 320

 緊湊、輕巧的相機觀察顯微鏡
適用于金屬、樹脂、印刷表面、微小運動物體等各種觀察對象。
·適用于使用YAG激光(近紅外、可見、近紫外、紫外)的微細加工※ ※不保證激光振蕩器配備系統的綜合性能和安全性。
半導體電路的切割、修整、修正、打標、薄膜(絕緣膜)的去除和加工、液晶彩色濾光片等的修復(修正缺陷)等。
·適用于紅外光學系統※
硅類的內部觀察、紅外光譜特征分析等。※另需紅外光源和紅外攝像機等。
·反射照明光學系統標配帶孔徑光闌遠心照明
需要均勻照明的圖像處理。可用于尺寸測量、形狀檢查、定位等。
·VMU-LB和VMU-L4B強化了顯微鏡主體的剛性和綜合性能(與以往產品相比)
·除標準規格外，還可按照需求設計制作雙相機、雙倍率(低倍率、高倍率)等產品